AIM División de Materiales Especiales

Cátodos para sputtering

División de Materiales Especiales

Cátodos para sputtering

Los cátodos para sputtering se utilizan para producir películas finas de metales o compuestos. Un material fuente es bombardeado con iones de plasma que desprenden átomos de la superficie del blanco. Los átomos expulsados se depositan sobre un sustrato para formar una película de varias capas atómicas de espesor.

La industria de las pantallas planas, al igual que otras industrias de revestimiento, necesita un material conductor y transparente. El indio, cuando se somete a sputtering o evaporación, presenta estas propiedades y es un material excelente para cumplir estos requisitos. AIM puede suministrar productos de indio e indio/estaño en forma de cátodos para sputtering o como fuente de evaporación.

Otro requisito de la industria de la puntería es la capacidad de unir un material de puntería a una placa de soporte antes del proceso de pulverización catódica. Las propiedades únicas del indio se prestan a ser un excelente pegamento de unión para esta aplicación. AIM ofrece indio puro en forma de barra para su conveniencia.

Para más información, póngase en contacto con el Departamento de Materiales Especiales de AIM.

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